IDF Fall 2006: 45 нанометров, 80 ядер и один терафлоп
admin 14 Марта 2007 в 14:25:23
Исполнительный директор Intel Пол Отеллини (Paul Otellini) вызвал легкий шок у участников Intel Developer Forum Fall 2006, появившись перед собравшимися с кремниевой пластиной содержащей процессоры способные выполнять до триллиона операций с плавающей запятой в секунду.
[div align=center][/div]
Отеллини демонстрировал подложку не более минуты. Она содержала 80 микросхем состоящих из 80 (!) ядер каждая. И, несмотря на то, что подобные процессоры не будут доступны потребителям еще в течение как минимум пяти лет, они представляют серьезный скачок в развитии технологии, заявил Отеллини.
Десять лет назад, первый компьютер, способный производить 1 триллион операций с плавающей запятой (1 терафлоп), названный “ASCI Red”, содержал 10 000 процессоров PowerPC и занимал площадь в 160 квадратных метров и стоил порядка 50 миллионов долларов США.
В течение нескольких последующих лет, Intel собирается улучшить производительность в расчете на 1 ватт энергии (performance per watt) собственных транзисторов примерно на 300 процентов. Следующая стадия – внедрение 45-нм техпроцесса, которая позволит компании достигать 20-процентного увеличения производительности при более чем в пять раз сниженных потерях энергии, сказал Отеллини.
news.zdnet.com
[div align=center][/div]
Отеллини демонстрировал подложку не более минуты. Она содержала 80 микросхем состоящих из 80 (!) ядер каждая. И, несмотря на то, что подобные процессоры не будут доступны потребителям еще в течение как минимум пяти лет, они представляют серьезный скачок в развитии технологии, заявил Отеллини.
Десять лет назад, первый компьютер, способный производить 1 триллион операций с плавающей запятой (1 терафлоп), названный “ASCI Red”, содержал 10 000 процессоров PowerPC и занимал площадь в 160 квадратных метров и стоил порядка 50 миллионов долларов США.
В течение нескольких последующих лет, Intel собирается улучшить производительность в расчете на 1 ватт энергии (performance per watt) собственных транзисторов примерно на 300 процентов. Следующая стадия – внедрение 45-нм техпроцесса, которая позволит компании достигать 20-процентного увеличения производительности при более чем в пять раз сниженных потерях энергии, сказал Отеллини.
news.zdnet.com
|